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電鍍技術

潤錦提供——化學鍍銅實例

新聞來源:本站發布日期:2015-01-23發布人:admin

化學鍍銅主要用于非導體材料的金屬化 處理,在電子工業中有著非常重要的地位。 它很好地解決了多層印制電路板層間電路的連接孔金屬化問題,使得電子產品可以向小 型化方向發展,并大大地提高了其可靠性。

化學鍍銅也是自催化還原反應,以甲醛 為還原劑,溶液的pH值在11以上,可獲得足夠厚度的銅層。在化學鍍銅過程中銅的還原反應如下:

此外,作為中間產物,上述反應還有一價銅鹽生成,而穩定性極差的一價銅鹽會發生 歧化反應〔自身氧化-還原反應),生成金屬銅粉末,而一價銅鹽在水中的溶解度很小,并容易以氧化亞銅的形式與金屬共沉積,夾雜于鍍層中,導致銅層的機械強度、導電性、延 展性等物理性能下降。

值得肯定的是,經過不斷的努力,人們發明了一些高速穩定的化學鍍銅新工藝,溶液 可以連續使用幾個月以上,并逐步實現了對鍍液的自動控制和調整。幾種較穩定的化學鍍銅溶液的組成和性能比較見表4-27,其中的酒石酸鉀鈉、EDTA二鈉鹽為配位劑,它使銅離子在堿性條件下的溶液中不形成Cu(OH)2沉淀; α ,α'-聯吡啶等是溶液的穩定劑,只需極少量即可有效地抑制氧化銅的生成和氧化亞銅的進一步還原。

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